1、光学工业企业超纯净水说明
半导体行业、ibms钱路单片机芯片及芯片封装、液晶拼接屏表明、高高精确度钱路板、光电材料器材、各种类型光电器材、微光电行业、大整体的规模、超小整体的规模ibms钱路需要用过多的注射用水、高注射用水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高,线宽越窄,对水质的要求也越高。
2、制备电子工业超纯水的工艺流程
主要包括反侵入设配与电去正离子(EDI)设配实施结合化学合成智能电子化工超注射用水的的的方式,他不是项制取超注射用水的新技术加工制作工艺 流程,也不是项环保健康,国家经济,发展趋势优势比较大的超注射用水化学合成加工制作工艺 流程.
其基本上工艺设计流程图为:城市污水→多导电介质化学活化炭活性炭活性炭过滤清洁网→化学活化炭化学活化炭活性炭活性炭过滤清洁网→精密模具化学活化炭活性炭活性炭过滤清洁网→里面水槽→反参透机械设备→电去阳离子(EDI)→超纯水槽→超纯循环水泵→内置保卫化学活化炭活性炭活性炭过滤清洁网→冲水点
3、电子工业超纯水的应用领域
半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路成品、半成品用超纯水
超纯材料和超纯化学试剂勾兑用超纯水;
光学玻璃镀膜、光电子及光纤
超纯材料和超纯化学试剂
汽车、家电表面抛光处理;
光电子产品;
其他高科技精微产品;
4、设备特点:
按需定制,柔性生产
技术,品质稳定
占地节省,维护简易
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